MLCC行業砂(sha)磨機**應用集(ji)中在5個關鍵工藝點，覆蓋鈦(tai)酸鋇介電粉體、銀/銅/鎳等內電極漿料，，市場空間隨MLCC小型化(hua)、高容(rong)化(hua)持(chi)續(xu)擴張(zhang)。RUCCA砂(sha)磨機主要解決的**是解團聚+勻粒徑(jing)+穩定分散(san)，*終(zhong)保(bao)障MLCC導電可靠、超薄(bo)化(hua)、高良率。

一、RUCCA砂磨機在MLCC的5大應用(yong)點

1. 鈦酸鋇基介電粉體研磨（**）：固相法/水熱法合成后需納米級細化，控制D50≤100nm、粒徑分布跨度<1.5，保障介電層均勻與介電常數穩定。

2. 銀粉(fen)內(nei)電(dian)(dian)極漿料分散：適配(pei)超薄(bo)電(dian)(dian)極（≤1μm），確保(bao)銀粉(fen)分散均勻(yun)、無團聚(ju)，提升印刷(shua)精度與導(dao)電(dian)(dian)性(xing)，減少開(kai)路風險。

3. 鎳粉內電極漿料(liao)制備：高(gao)容(rong)MLCC常用，砂磨機分散(san)鎳粉并與鈦酸鋇復合，控制粒徑與分散(san)性，避免疊層開(kai)裂(lie)、提升容(rong)量一致性。

4. 銅(tong)粉電(dian)極/粘(zhan)結相研(yan)磨(mo)：用(yong)于中低壓MLCC，需(xu)低氧環境研(yan)磨(mo)，防止氧化，保(bao)證(zheng)電(dian)極導電(dian)性(xing)與可靠性(xing)。

5. 復合粉體/添加劑混合：如(ru)鈦酸鋇與稀土摻雜劑、燒結助(zhu)劑（MgO/CaO）的均勻分(fen)散，提升(sheng)燒結致密性(xing)與介電穩定性(xing)。

金(jin)屬粉（銀/鎳/銅）天生易團聚，普通攪拌(ban)散不開，RUCCA砂磨機強剪切力是(shi)**能(neng)高(gao)效解聚的(de)設備，MLCC電極越做越薄(bo)（現在≤1μm），對(dui)粉體粒徑要(yao)求極高(gao)，RUCCA砂磨機能(neng)**磨到(dao)納(na)米級(ji)，其他設備達(da)不到(dao)精度(du)，電極漿料分散不均(jun)(jun)會(hui)導致MLCC開路、短(duan)路，砂磨機能(neng)保證粉體均(jun)(jun)勻懸浮(fu)，是(shi)后續(xu)印刷、燒結(jie)合格的(de)前(qian)提。

二、**痛點與(yu)對應解決方案

1.針對鈦酸(suan)鋇介電粉(fen)體(ti)研磨 ：

**痛點是：納米顆粒(li)團聚、粒(li)徑分布(bu)寬、溫升致晶(jing)型轉(zhuan)變

對應解決方案： 0.1-0.3mm Y-TZP氧化鋯珠；外循環冷卻控溫；在線激光粒度閉環控制 D50≤100nm，跨度<1.2；控溫<40℃；雜質含量≤50ppm；節能10-20% 。

2.銀粉內電極漿料分散 ：

**痛點是：團聚影響印刷精度、導電性不均

對應解決方案：適配30-50%固含量；磷酸酯類分散劑配伍工藝 粒徑分布跨度<1.5；印刷層厚度≤1μm；解聚率>90%

3. 鎳(nie)粉內電極漿(jiang)料制備：

**痛點是(shi)：氧化變質、疊層開(kai)裂(lie)、容量(liang)一致性(xing)差(cha)

對應(ying)解決方(fang)案(an)：氮氣保(bao)護封閉研磨系(xi)統(tong)；碳(tan)化鎢棒銷+氧(yang)化鋯(gao)腔體；PID溫控系(xi)統(tong) 氧(yang)含量≤0.5%；D50波動±5nm；燒結(jie)致(zhi)密度提升8%

4. 銅粉電極研(yan)磨：**痛點是(shi)：易(yi)氧化、金屬雜質(zhi)引入

對應解決方案：低氧環境研磨（氧含量<1%）；陶瓷疊片式分離器；316L不銹鋼全封閉流道 氧化率≤0.3%；Fe/Ni雜質≤30ppm；粒徑均勻性≥92%

5. 復合粉體/添加劑混合：

**痛點是：摻雜不(bu)均、燒結致密性差

對應(ying)解決方案：雙(shuang)動(dong)力進(jin)料+湍流(liu)分散(san)結構；適(shi)配0.3-0.8mm研磨珠(zhu)；模塊化腔體設(she)計 混(hun)合均勻度≥95%；燒(shao)結收縮率波動(dong)±0.5%；產能50-2000L/h

RUCCA砂磨(mo)機在電(dian)極材料里(li)的3個**作用

1. 解聚：打破銀(yin)/鎳(nie)/銅粉的(de)軟/硬(ying)團聚，把團聚體拆成單顆粒(li)，避(bi)免漿料里有大顆粒(li)堵網(wang)、印刷露底

2. 勻粒徑：將(jiang)粉體磨至目標粒徑并控制分布窄，保證電極厚度均勻，不會局部過(guo)厚/過(guo)薄導(dao)致燒結開(kai)裂

3. 穩(wen)定(ding)分(fen)散：讓金(jin)屬粉均勻分(fen)散在有(you)機(ji)載體中(zhong)，形成穩(wen)定(ding)漿(jiang)料，防(fang)止儲(chu)存分(fen)層，保(bao)障批(pi)量生(sheng)產一致性

三、針對儒佳的設備選用(yong)機(ji)型(xing)

儒(ru)佳的(de)主要針對新材料(liao)的(de)機(ji)型N系列，UM系列,DUM系列：

? N系列（臥式納米砂磨機）：鈦(tai)酸鋇粉(fen)體量(liang)產主力，適(shi)配(pei)銀粉(fen)漿料規模化(hua)生產，流量(liang)大(da)(da)、控溫強，適(shi)配(pei)0.3-1.0mm研磨珠，D90≤300nm、*大(da)(da)線(xian)速度12M/s，適(shi)合大(da)(da)產能(neng)線(xian)。

? UM系(xi)列（立式無(wu)篩網納米砂(sha)磨機）：研發(fa)/中試**，適(shi)配(pei)鎳/銅粉防氧化(hua)小(xiao)批量(liang)研磨；可投0.03-0.3mm超微珠，無(wu)網離心出料，D90≤100nm，適(shi)合小(xiao)批量(liang)、多品種切換。

? DUM系列（立式雙動力納米砂磨機）：超薄電極漿料量產，強化UM的能量密度與穩定性；碳化鎢/陶瓷耐磨組件，適配0.05mm以下微珠，氧含量<0.5%，適配高固含（40-60%）鎳/